نانومواد گرافن- بنیان و کاربرد آنها در حذف مواد رنگزا از محلول آبی

آلودگی محیط زیست یکی از مسائل مهمی است که با صنعتی‌شدن سریع جوامع، افزایش تصاعدی جمعیت و شهرسازی بدون برنامه با آن روبرو هستیم. مواد رنگزا، آلاینده‌های مهم محیط‌زیست هستند که به دلیل سمی بودن، جهش‌زایی، و سرطان‌زایی، حیات حیوانات، انسان‌ها و میکروارگانیسم‌ها را در معرض خطرات جدی قرار می‌دهند. از این...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors: مهساسادات میرعلینقی, طاهره سیری
Format: Article
Language:fas
Published: Institute for Color Science and Technology 2016-02-01
Series:مطالعات در دنیای رنگ
Subjects:
Online Access:https://jscw.icrc.ac.ir/article_79197_37c4a82c7f9eefddac8ecdece3e9607d.pdf
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Description
Summary:آلودگی محیط زیست یکی از مسائل مهمی است که با صنعتی‌شدن سریع جوامع، افزایش تصاعدی جمعیت و شهرسازی بدون برنامه با آن روبرو هستیم. مواد رنگزا، آلاینده‌های مهم محیط‌زیست هستند که به دلیل سمی بودن، جهش‌زایی، و سرطان‌زایی، حیات حیوانات، انسان‌ها و میکروارگانیسم‌ها را در معرض خطرات جدی قرار می‌دهند. از این رو حذف آنها از فاضلاب‌های صنعتی و خانگی بسیار مورد توجه است. جذب سطحی به دلیل انعطاف‌پذیری، طراحی و اجرای ساده و کارایی بالا بر سایر روش‌های رنگ‌زدایی ارجحیت دارد. پیشرفت‌های عظیم در علم و فناوری نانو، سنتز نانوجاذب‌های ممتاز و موثری را امکان‌پذیر می‌سازد که به گسترش سامانه‌های جذب سطحی برای تصفیه‌ی آب/ پساب کمک می‌کند. در سالیان اخیر، کاربرد مواد گرافن- بنیان به عنوان موادی نوید بخش در فرآیند جذب سطحی مورد بررسی قرار گرفته است. مساحت بسیار بالای سطح، الکترون‌های پای (π) نامستقر، خواص شیمیایی قابل تنظیم، و سهولت اصلاح سطح، استفاده از گرافن و مواد وابسته به آن را به عنوان جاذب مطلوب ساخته است. در این مقاله به اختصار، جدیدترین روش‌های سنتز مواد گرافن- بنیان نظیر گرافن اکسید، گرافن اکسید کاهش یافته و نانوکامپوزیت‌های آنها بیان می‌شود. علاوه بر این، مروری بر کاربردهای بالقوه‌ این نانو مواد کم هزینه و بادوام برای حذف مواد رنگزا از سامانه‌های آبی ارائه می‌شود. در نهایت، چالش‌های موجود در این حوزه‌ تحقیقاتی به منظور شناخت مسیرهای آتی در آلودگی‌زدایی و احیای پساب‌ها مورد بررسی قرار می‌گیرد.
ISSN:2251-7278
2383-2223