Déposition par Pulvé Risation Cathodique Radio Fréquence et Caracté Risation Électronique, Structurale et Optique de Couches Minces du Dioxyde de Titane
Deposited titanium oxide thin films are used as optical protector films for several materials and as energy converters for solar cells. In this work, titanium oxide thin films are deposited on c-Si and glass substrates by reactive radiofrequency sputtering. All the deposits are grown at ambient temp...
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| Main Authors: | , , , |
|---|---|
| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
Wiley
2004-01-01
|
| Series: | Active and Passive Electronic Components |
| Online Access: | http://dx.doi.org/10.1080/08827510310001616885 |
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| _version_ | 1832552007923138560 |
|---|---|
| author | K. Hafidi M. Azizan Y. Ijdiyaou E. L. Ameziane |
| author_facet | K. Hafidi M. Azizan Y. Ijdiyaou E. L. Ameziane |
| author_sort | K. Hafidi |
| collection | DOAJ |
| description | Deposited titanium oxide thin films are used as optical protector films for several materials and as energy converters for solar cells. In this work, titanium oxide thin films are deposited on c-Si and glass substrates by reactive radiofrequency sputtering. All the deposits are grown at ambient temperature and the sputtering gas is a mixture of oxygen and argon with an overall pressure of 10−2
mbar. The oxygen partial pressure ratios varies from 5% to 20%. |
| format | Article |
| id | doaj-art-482e8ca303f74b919b45b8093f02cc26 |
| institution | Kabale University |
| issn | 0882-7516 1563-5031 |
| language | English |
| publishDate | 2004-01-01 |
| publisher | Wiley |
| record_format | Article |
| series | Active and Passive Electronic Components |
| spelling | doaj-art-482e8ca303f74b919b45b8093f02cc262025-02-03T05:59:52ZengWileyActive and Passive Electronic Components0882-75161563-50312004-01-0127316918110.1080/08827510310001616885Déposition par Pulvé Risation Cathodique Radio Fréquence et Caracté Risation Électronique, Structurale et Optique de Couches Minces du Dioxyde de TitaneK. Hafidi0M. Azizan1Y. Ijdiyaou2E. L. Ameziane3Laboratoire de Physique du Solide et des Couches Minces, Faculté des Sciences Semlalia, Université Cadi Ayyad, Marrakech BP 2390, MoroccoLaboratoire de Physique du Solide et des Couches Minces, Faculté des Sciences Semlalia, Université Cadi Ayyad, Marrakech BP 2390, MoroccoLaboratoire de Physique du Solide et des Couches Minces, Faculté des Sciences Semlalia, Université Cadi Ayyad, Marrakech BP 2390, MoroccoLaboratoire de Physique du Solide et des Couches Minces, Faculté des Sciences Semlalia, Université Cadi Ayyad, Marrakech BP 2390, MoroccoDeposited titanium oxide thin films are used as optical protector films for several materials and as energy converters for solar cells. In this work, titanium oxide thin films are deposited on c-Si and glass substrates by reactive radiofrequency sputtering. All the deposits are grown at ambient temperature and the sputtering gas is a mixture of oxygen and argon with an overall pressure of 10−2 mbar. The oxygen partial pressure ratios varies from 5% to 20%.http://dx.doi.org/10.1080/08827510310001616885 |
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| title_sort | deposition par pulve risation cathodique radio frequence et caracte risation electronique structurale et optique de couches minces du dioxyde de titane |
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