مروری بر روش های تهیه لایه های نازک دی اکسید تیتانیم برای استفاده در سل های خورشیدی حساس شده به مواد رنگزا
در دو دهه گذشته نسل سوم سلهای خورشیدی یعنی سلهای خورشیدی حساس به مواد رنگزا یا سلهای گراتزل نسبت به سـلهای سیلیکـونی به دلیل قیمت پایین تولید و راندمان نسبتا بالای تبدیل نور به جریان الکتریسیته بسیار مورد توجه قرارگرفتهاند. یکی از بخشهای مهم سلهای خورشیدی حساس به مواد رنگزا لایه اکسید تیتان پ...
Saved in:
Main Authors: | , , |
---|---|
Format: | Article |
Language: | fas |
Published: |
Institute for Color Science and Technology
2015-09-01
|
Series: | مطالعات در دنیای رنگ |
Subjects: | |
Online Access: | https://jscw.icrc.ac.ir/article_76397_aeeba471dc503dcc2c0e0f829a66b110.pdf |
Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
Summary: | در دو دهه گذشته نسل سوم سلهای خورشیدی یعنی سلهای خورشیدی حساس به مواد رنگزا یا سلهای گراتزل نسبت به سـلهای سیلیکـونی به دلیل قیمت پایین تولید و راندمان نسبتا بالای تبدیل نور به جریان الکتریسیته بسیار مورد توجه قرارگرفتهاند. یکی از بخشهای مهم سلهای خورشیدی حساس به مواد رنگزا لایه اکسید تیتان پوشش داده شده بر روی لایه FTO میباشد که نقش دریافت کننده الکترون تهیج یافته ماده رنگزا و انتقال آن به سطح FTO است. بنابراین تهیه و اعمال این لایه نقش بسیار مهمی در عملکرد سلهای خورشیدی حساس به مواد رنگزا دارد. در اینجا هدف معرفی روشهای مختلف در تهیه لایههای نازک اکسید تیتانیوم برای استفاده در سلهای خورشیدی حساس به مواد رنگزا میباشد. |
---|---|
ISSN: | 2251-7278 2383-2223 |