Квантовохімічне моделювання процесів гідрофобізації поверхні силікатних матеріалів силіконатами лужних металів
Методом теорії функціоналу електронної густини досліджено взаємодію аніонів метилсилікатної CH3Si(OH)2O– та фенілсилікатної C6H5Si(OH)2O– кислот з поверхнею кремнезему. На основі аналізу розрахованих енергетичних характеристик оцінено імовірність перебігу цих процесів. Встановлено, що реакціям утвор...
Saved in:
| Main Authors: | , , |
|---|---|
| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
Chuiko Institute of Surface Chemistry of NAS of Ukraine
2016-02-01
|
| Series: | Хімія, фізика та технологія поверхні |
| Subjects: | |
| Online Access: | https://cpts.com.ua/index.php/cpts/article/view/361 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|