Квантовохімічне моделювання процесів гідрофобізації поверхні силікатних матеріалів силіконатами лужних металів - A. G. Grebenyuk; D. B. Nasiedkin; Yu. V. Plyuto (Хімія, фізика та технологія поверхні)
Методом теорії функціоналу електронної густини досліджено взаємодію аніонів метилсилікатної CH3Si(OH)2O– та фенілсилікатної C6H5Si(OH)2O– кислот з поверхнею кремнезему. На основі аналізу розрахованих енергетичних характеристик оцінено імовірність перебігу цих процесів. Встановлено, що реакціям утворення метилсилікатної CH3Si(OH)3 та фенілсилікатної C6H5Si(OH)3 кислот з їхніх аніонів в присутності діоксиду вуглецю для зв’язування гідроксид-іонів в формі гідрокарбонат іонів сприяє гідратація аніонів (енергетичний ефект складає –61 та –46 кДж/моль відповідно для метилсилікатної та фенілсилікатної кислот). Конденсація метилсилікатної кислоти з силанольними групами поверхні кремнезему є більш ефективною, ніж фенілсилікатної (енергетичний ефект складає відповідно –36 та –26 кДж/моль).